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688383
光学蒸镀系统
光学镀膜的基本原理是通过光的干涉现象来减少光的反射，从而改善光学元件的性能。具体来说，光学镀膜利用光波干涉原理，在镜片的表面镀上一层厚度为1/4波长或多层叠加的薄膜，使得光线不再只被玻璃-空气界面反射，而是在空气-薄膜和薄膜-玻璃两个界面反射，从而产生干涉现象，减少反射光。
产品分类：
真空设备
- 产品描述
-
设备主要结构
- 真空腔体及真空室内
- 抽气及排气系统
- 电子束蒸发系统
- RF射频离子源
- 高精度光学控制系统
- 石英晶振及速率控制系统
技术特点
- 该设备能够实现0-200层膜的膜系镀膜;
- 可沉积金属膜、半导体膜、及各类化合(氧化物、氮化物、碳化物等)膜;
- 配置高精密的电子枪和离子源;
- 集成电阻蒸发，镀膜工艺和膜厚自动控制，薄膜质量稳定。
技术参数
极限真空 5X10-4Pa，洁净空载，有工件架、有护板、无镀片情况 抽空时间 大气至3.0X10-3Pa≤15min 成膜系统 E型电子枪蒸发+RF离子源辅助成膜，水冷坩埚有环形坩埚和穴位坩埚 真空泵组 低真空泵组+高真空泵组(高真空泵可选扩散泵、分子泵、低温泵) 烘烤系统 烘烤温度300°C，控温精度±5°C 膜厚监测 Inficon六点式晶振+光控系统 规格介绍
机型 内腔尺寸 备注 XH-EB500 SUS304 φ500mmx650mm (H) 设备可根据客户要求定制 XH-EB900 SUS304 φ920mmx1000mm (H) XH-EB1100 SUS304 φ1100mmx1300mm (H) XH-EB1350 SUS304 φ1350mmx1500mm (H) XH-EB1550 SUS304 φ1550mmx1800mm (H) XH-EB1800 SUS304 φ1800mmx1900mm (H) XH-EB2050 SUS304 φ2050mmx1400mm (H) XH-EB2700 SUS304 φ2700mmx1600mm (H)
产品询价
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