连续式镀膜生产线

通过真空磁控溅射技术实现高效镀膜:在真空腔室内，靶材(镀膜材料)受磁场约束的氩离子轰击，溅射出原子或分子，这些粒子沉积到匀速移动的基材表面形成薄膜。生产线采用多腔室串联设计，基材经清洗、镀膜、后处理等环节连续通过，各腔室独立控制真空度与气体成分(如通入氧气或氮气合成化合物膜)。传动系统确保基材稳定运行，配合实时膜厚监控动态调整工艺参数，保障膜层均匀性;广泛应用于显示面板、太阳能电池、汽车玻璃等领域。

产品分类：

真空设备

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产品描述

设备特点

大面积镀膜，多室多靶位，灵活性大;
磁导向传输系统，平稳可靠;
镀膜前有离子源对基片进行表面清洗和活化，提高附着力，改善膜层质量;
真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽气能力;
便于维修的侧装分子泵和全开式真空室门;
自行开发的方便的用户易操作控制软件;
真空室的模块式设计，单点定位，便于拆装。

技术参数

产品型号	XHSL系列
产品规格	可根据客户需求定制
设备尺寸	可根据客户需求定制
工艺类型	PVD真空镀
操作模式	全自动、半自动、手动
常用基材	玻璃陶瓷金属塑料等
可镀膜系	适用于镀制ITO、AZO、TCO等透明导电薄膜，以及单金属Ti、Ag、CU、AL、CR、NI等材料