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卷绕镀膜设备


主要用于在柔性基材(PET,PP,PI或其他)上镀制金属、化合物或其他材料。 采用卷对卷工艺,基材以卷料形式连续进料和收料,实现连续化生产,大幅提高生产效率。 通过精确的张力控制系统,确保基材在卷绕过程中保持恒定张力,避免薄膜拉伸或松弛,保证镀膜均匀性。通过调整镀膜速率、基材速度等参数,可精确控制薄膜厚度,满足不同应用需求。

产品分类:

真空设备

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  • 产品描述
  • 应用场景

    包装行业、电子行业、光学领域、装饰与防伪、建筑与汽车行业、新能源领域等等。

     

    技术参数

    真空系统

    镀膜室真空室结构 真空室为卧式方形,室体为304不锈钢制造。
    极限压力 镀膜室9x10-4pa
    工作压力 镀膜室2.5x10-1Pa(可调)
    抽真空时间(空载) 清洁系统空载时(镀膜区,大气到8x10-3pa)≤30分钟
    抽真空时间(带载) 清洁系统装有1350x中400规格薄膜(膜厚4.5um,膜经彻底烘烤除气)时(镀膜区,大气到8x10-3Pa)≤60分钟

    卷绕

    卷绕速度 1m/min~200m/min,动态数字显示速度
    镀膜速度 常用速度:2m/min-50m/min。
    卷绕张力 50~250N(根据实际做调整)

    镀膜

    镀膜方式 单面或双面,PVD或CVD
    镀膜区域 整个膜宽度范围
    镀膜厚度 5nm-5000nm
    镀膜材料 金属或化合物

     

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